Start in etwa The most important part of every helicopter is its main rotor making the lift-off possible. Der wichtigste Teil eines jeden Helikopters ist der Hauptrotor, der das Abheben ermöglicht.

Abheben ermöglicht. Method according to claim 6, characterised in that the burr is tilted during lift-off and, utilising the force of gravity, conveyed by a chute into a collecting receptacle Abheben geneigt und unter Ausnutzung der Schwerkraft über eine Rutsche in einen Sammelbehälter 14 gefördert wird.

Is it prior to lift-off seconds? Vor dem Start Sekunden? Start Sekunden? Photolithographic process for obtaining structures by the lift-off technique.

Verfahren zur fotolithografischen Herstellung von Strukturen nach dem Prinzip der Abhebetechnik. Prinzip der Abhebetechnik.

The textual designator of the touch down and lift-off area. Der Bezeichner des Start- und Landebereiches in Textform. Landebereiches in Textform.

This allows the plane to accelerate to a lift-off speed. Dadurch kann das Flugzeug bis auf Abhebegeschwindigkeit beschleunigt werden.

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Polnisch Wörterbücher. Portugiesisch Wörterbücher. Rumänisch Wörterbücher. Russisch Wörterbücher. Schwedisch Wörterbücher. Opium is a majestic plant, with intense smoke from lift-off to landing.

Opium ist eine majestätische Pflanze, deren intensiver Rauch vom Start bis zur Landung einen heftigen Raketenflug bewirkt..

Enjoy the tingle during lift-off and landing, the tranquillity in the balloon, the fascinating bird s eye perspective high above the Trier countryside..

Kurz nach dem Start am Flughafen von Canavieiras.. The model of the IABG space centre shows the qualification tests that launch vehicles, satellites and other space-flight systems must undergo before they are sent into orbit..

Shock and vibration tests are used to simulate the vibrations that the payload, its subsystems and components are subjected to at lift-off..

The effects of the acoustic stresses placed on the payloads when the rocket is launched can be reproduced in the acoustic test facility at the Space Test Centre..

Das Modell des Raumfahrttestzentrums der IABG verdeutlicht, welche Qualifikationsversuche für Trägerraketen, Satelliten und andere Raumfahrtsysteme erforderlich sind, bevor diese in das Weltall befördert werden..

Durch Schock- und Vibrationstests werden die beim Start auftretenden Erschütterungen der Nutzlasten sowie ihrer Teilsysteme und Komponenten simuliert..

Die Wirkung der während des Starts der Rakete auftretenden akustischen Belastungen auf die Nutzlasten können in der Akustik-Testanlage des Raumfahrttestzentrums nachvollzogen werden..

Due to its versatility OCAM-2 can easily be adapted to perform a variety of tasks.. Four Cameras On Board Four cameras were used for this mission: one to record launcher lift-off and the separation of the booster from the main stage, one to record separation of the fairing and, as a special mission feature, two cameras to record the separation of the payload ATV-4 for a stereoscopic 3D presentation..

The individual system tasks, such as camera selection, illumination, recording, image storage, replay and data transmission with various parameters, are automatically controlled by two independent control sequences..

Die Aktivitaeten des Systems wie Kameraselektion, Beleuchtung, Aufnahme, Speicherung, Wiedergabe und die Datenuebertragung mit verschiedenen Parametern werden automatisch durch zwei unabhaengige Steuerungssequenzen bestimmt..

Challenger, with teacher Christa McAuliffe aboard, explodes 73 seconds after lift-off.. The first lift-off of a Soyuz rocket is scheduled for the end of The French space agency CNES has assigned a contract volume of more than million Euros to the participating European company consortium and the participating Russian companies..

Der erste Start einer Soyouz-Rakete ist für Ende geplant.. Die französische Raumfahrtbehörde CNES hat an das beteiligte europäische Firmenkonsortium und die beteiligten russischen Firmen ein Auftragsvolumen von mehr als Millionen Euro vergeben, ca.

Möchten Sie ein Wort, eine Phrase oder eine Übersetzung hinzufügen? We are using the following form field to detect spammers.

Please do leave them untouched. Otherwise your message will be regarded as spam. Durch die Temperatureinwirkung werden in den belichteten Bereichen des Fotolacks Quervernetzungsreaktionen bewirkt und nach einer Ruhephase, in der eine ausreichende Rehydrierung sichergestellt wird eine längere Lagerung an Luft ist dafür ausreichend , folgt der zweite Zusatzschritt.

Eine Flutbelichtung des gesamten Wafers bewirkt in den noch unbelichteten Bereichen die Bildung von 3-Indencarbonsäure und macht diese Bereiche löslich gegenüber dem alkalischen Entwickler.

Nach der Entwicklung entsteht so ein Negativbild der Maskenstruktur mit einem unterschnittenen Flankenprofil. Bei basischen Umkehrfotolacken wird die Fotolackschicht nach der Belichtung zunächst einem Amin -Dampf oder einer Ammoniak -Lösung ausgesetzt.

Die so entstandenen Inden - Derivate sind sehr wirksame Löslichkeitshemmer. Vor der Entwicklung des Lacks erfolgt wie beim direkten Prozess eine Flutbelichtung, bei der die zunächst unbelichteten Bereiche belichtet und somit löslich werden.

Bei beiden Prozessvarianten kann bei der ersten Belichtung durch die Variation der Belichtungszeit der Flankenwinkel des Fotolackprofils beeinflusst werden.

Wie bereits erwähnt, geschieht dies aufgrund des tiefenabhängigen Absorptionsverhaltens des Lichts und des daraus resultierenden Vernetzungsgrades nach dem Umkehrheizen.

Eine hohe Belichtungsdosis führt hierbei zu steilen Flanken und eine geringe Belichtungsdosis zu stark unterschnittenen Flanken.

Mit einem solchen Profil kann beim Lift-off-Prozess das Risiko von undefinierten Abrisskanten an den Seitenwänden vermieden werden.

Eine weitere Möglichkeit, ein unterschnittenes Fotolackprofil herzustellen, ist die Strukturierung der Opferschicht mittels Elektronenstrahllithografie.

Je nach Ausgangsenergie ergibt sich eine mehr oder weniger langgezogene, birnenförmige Energieverteilung. Für die Herstellung eines hinterschnittenen Profils kann der obere Bereich dieser Verteilung genutzt werden.

Hier nimmt der Verteilungsquerschnitt mit zunehmender Tiefe ebenfalls zu. Um dieses Profil in einer nur wenige hundert Nanometer dicken Opferschicht zu erreichen, sind jedoch relativ geringe Energien notwendig, was wiederum das Auflösungsvermögen negativ beeinflusst.

Dies gilt vor allem bei dichten Strukturen. Abhilfe kann die Verwendung eines Doppelschicht-Fotolacksystems schaffen.

Hierbei hat die untere Schicht eine wesentlich höhere Empfindlichkeit z. Häufig verwendete Materialkombination für ein solches System ist ein Schichtstapel aus einer Deckschicht aus Polymethylmethacrylat PMMA; mit hoher molarer Masse und geringerer Elektronenempfindlichkeit und einer darunterliegenden Schicht aus einem seiner Copolymere z.

Eine neuere Lift-off-Variante nutzt gefrorene Kohlendioxid -Partikel engl.